品川　啓介

シナガワ　ケイスケ

主要研究業績　-　2016年度以前

品川啓介(2017) ハイテク分野の製品イノベーションに資する科学の認識に関する研究ビジネスクリエーター研究/8号/pp.19-39
品川啓介(2016) ハイテク製品開発における科学知識の爆発－青色LED開発及び先端半導体露光装置開発の発展経路検証－ビジネスクリエーター研究/7号/pp.61-75
品川啓介(2014) 科学知識の爆発とプロセスイノベーション：青色発光ダイオード製品開発研究の定量分析研究技術計画/29 巻 2_3 号/pp.200-213
品川啓介(2014) プロセスイノベーションの製品開発における役割の定量的実証研究－青色発光ダイオード開発を例にビジネスクリエーター研究/5号/pp.43-55
品川啓介(2009) サイエンス型産業における新規事業策定のための論文書誌データベースの応用に関する研究ビジネスクリエーター研究/1号/pp.67-83
K Shinagawa, J Yamamoto, S Ohgawara et. al.(2004) "Effects of Nitrogen Addition to Microwave Oxygen Plasma in Surface Wave with Disk-Plate Window and Photoresist Ashing"/Japanese Journal of applied physics(43), pp.6858-6862
K Shinagawa, J Yamamoto, K Kusaba et. al.(2002) "Ashing Properties in a Surface-Wave Mode Plasma with a Quartz Window" Japanese Journal of applied physics(41), pp.1224-1229
K Kusaba, K Shinagawa, M Furukawa et. al.(2001) "Surface Wave Plasma Production Employing High-Permittivity Material for Microwave Window" Japanese Journal of applied physics (40), pp.L1179-L1182
K.Shinagawa et. al.(2001) "Ashing Properties in a Surface-Wave Mode Plasma with a High-Permittivity Alumina Window." Japanese Journal of applied physics (40), pp.5856-5860
H.Shindo, K.Shinagawa, M.Furukawa et. al.(1999) "Oxygen Microwave Plasma Density Enhancement by Surface Waves with a High-Permittivity Material Window" Japanese Journal of applied physics (38), pp.4905-4909
S. Fujimura, K.shinagawa et.al.(1994) "Sodium contamination free ashing process using O2+H2O plasma downstream"/ Journal of Vaccum Science & technology (B12) pp.2409-2413
S. Fujimura, K.shinagawa et.al.(1991) "Resist stripping in an O2+H2O plasma downstream"
S. Fujimura, K.shinagawa et.al.(1990) "Additive nitrogen effects on oxygen plasma downstream ashing" Journal of Vaccum Science & technology (B9) pp.357-361

品川 啓介

主要研究業績 - 2016年度以前

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